«Технотех» сообщил о получении патента на раствор для удаления фоторезиста

Фото: pxhere.com

Стоимость изготовления такого раствора в разы ниже, чем использование аналогичных импортных решений

Компания «Технотех» (Йошкар-Ола), которая специализируется на выпуске печатных плат и радиоэлектроники, получила патент на «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления», пишет «Телеспутник».

Фоторезист — полимерный светочувствительный материал, который наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки. Он используется для получения рисунка на фольгированном диэлектрике при создании печатных плат. Оставшийся фоторезист удаляется с помощью специального раствора.

«Автором изобретения стал руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев», - говорится в публикации.
Не пропустите

Как объяснил заместитель генерального директора по инновациям Владимир Потапенко, к поиску отечественных решений подтолкнули международные санкции, заблокировавшие поставки спецхимии из Евросоюза и Соединенных Штатов.

«Да, мы могли откатиться назад и заменить раствор устаревшим процессом на основе минеральной щелочи. Но риски производить брак были велики, так как такой состав травит олово, сильно окисляет медь и неприменим для комбинированного метода изготовления печатных плат, - рассказал он.

Команда «Технотеха» под руководством Андрея Алкаева всего за две недели разработала и испытала собственный раствор. Он не только отлично справляется со своей задачей, но и имеет ряд важных преимуществ:

- Действует быстрее импортных аналогов.
- Не вредит меди и олову на плате.
- Служит дольше.

Напомним, недавно специалисты Санкт-Петербургского филиала Национального центра «Микрохирургия глаза» имени академика Святослава Фёдорова представили разработанную ими методику лазерного лечения синдрома Эллингсона.

Фото: pxhere.com